水中氟離子濃度測定儀可以用于實時監測光伏新能源、電子半導體、氟化工等高氟廢水（濃度達10000mg/L），能聯動除氟工藝確保排放≤10mg/L（國家標準）。

儀器介紹

上海玄天FT-7000型水中氟離子濃度測定儀基于氟離子選擇性電極（F? ISE）技術，通過氟化鑭單晶膜對氟離子的特異性電位響應實現實時氟離子濃度監測，廣泛應用于需要精準控制氟離子含量的場景，可實時監測工業廢水處理、環境監測、飲用水等領域中氟離子的濃度。 

技術特點

集成溫度傳感器和測量參比電極，無需化學試劑即可完成測量；

水中氟離子濃度測定儀具有響應速度快的特點，響應時間≤30秒；

支持標準溶液或現場溶液自動校準，適合連續在線監測；

隔離的4～20mA電流輸出，通訊接口可選擇RS-485，便于接入PLC/DCS控制系統。

技術指標

產品型號： FT-7000

測量范圍： 0-10000mg/L（可定制）

檢測下限： 0.01mg/L

顯示方式： LCD背光顯示，耐溫至80℃不變黑

精 確  度： ±5%FS

壓力范圍： ≤0.1Mpa

溫度范圍： 0～80℃

外殼材質： 塑殼

校準方式： 標液校準、現場校準

電 纜  線： 標配5m（可延長）

繼 電  器： 3組繼電器

電流輸出： 4～20mA電流輸出

數字輸出： RS-485數字通訊

供電電源： AC220V/DC24V

安裝方式： 浸入式/流通式/管道式

防護等級： IP68

典型應用場景

1，工業廢水除氟處理

可用于冶金、化工、磷肥廠、半導體工廠的廢水排放口實時監測氟離子濃度，GB8978《污水綜合排放標準》要求氟化物排放濃度≤10mg/L（一級標準），通過在線監測指導加藥（如氯化鈣生成 CaF?沉淀）或膜處理（如反滲透），確保氟離子達標排放。

2，半導體與電子工業

可應用于芯片蝕刻液（如含 HF 的刻蝕液）、清洗水系統中，實時監測蝕刻液中氟離子濃度（通常10~50g/L），確保刻蝕速率穩定；廢水處理后氟離子需≤1mg/L，避免污染地下水（半導體行業環保要求高于國標）。

3，化工與磷肥生產

磷肥（如過磷酸鈣）生產中，氟以四氟化硅（SiF?）形式逸出，吸收液中氟離子濃度需監測（≥1000mg/L時可回收制備氫氟酸）；

含氟農藥（如氟蟲腈）合成過程中，反應液氟離子濃度影響產物純度，氟離子含量需要控制在0.1~1.0mol/L。